روش رسوب دهی شیمیایی ازفازبخار(CVD)

روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار(Chemical Vapor Deposition, CVD) به دلیل ویژگی های منحصربه فرد خود، به عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیمه رسانا شناخته می شود. همچنین از این روش برای پوشش دهی سطوح مختلف با هدف بهبود مقاومت به خوردگی، سایش، اکسیداسیون، تنش های حرارتی و نیز ارتقاء خواص مکانیکی آن ها استفاده می شود. در روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار، فیلم نازکی از ماده جامد در اثر وقوع واکنش شیمیایی در فاز بخار تشکیل می شود.

در این روش، ماده اولیه درون راکتور قرار می گیرد. سپس، جریان گاز حاوی ماده اولیه، که تجزیه شیمیایی شده است، روی زیر لایه چگالیده شده و لایه مورد نظر را تولید می کند. در انتها گازها و مواد زائد به بیرون از محفظه رشد هدایت می شوند. این روش برای انباشت انواع مواد شامل آلیاژها، نیتریدها، اکسیدها، نانو کامپوزیت ها، نیمه رساناها و ترکیبات بین فلزی مناسب می باشد. پوشش تولیدی در این روش دانسیته و خلوص بالایی داشته و جهت کاربردهایی نظیر قطعات الکترونیکی، ابزار برشی و صنایع هوافضا استفاده می شود.